tập trung vào ứng dụng siêu âm, với thiện chí giành được khách hàng
| Nguồn gốc: | Trung Quốc |
|---|---|
| Hàng hiệu: | FUNSONIC |
| Chứng nhận: | CE |
| Số mô hình: | FSW-3002-L |
| Số lượng đặt hàng tối thiểu: | 1 đơn vị |
| Giá bán: | Negotation |
| chi tiết đóng gói: | đóng gói bằng thùng carton |
| Điều khoản thanh toán: | T/T, Western Union |
| Khả năng cung cấp: | 1000 đơn vị mỗi tháng |
| tên sản xuất: | Nguyên tử hóa vòi phun siêu âm tán xạ 30Khz | Tần số: | 30KHz |
|---|---|---|---|
| công suất tối đa: | 1-15W | Phạm vi kích thước hạt tự động: | 15-40μm |
| Lưu lượng phun: | 0,5-20ml | độ nhớt chất lỏng: | <30cp/giây |
| Kích thước hạt: | < 12μm | Ứng dụng: | Thích hợp cho việc phun thông lượng toàn bộ bề mặt |
| Làm nổi bật: | Các vòi bơm siêu âm lớp phủ chống quang,30Khz Phân tán vòi siêu âm,Các vòi siêu âm bán dẫn Wafer |
||
Ứng dụng điển hình Sản phẳng bán dẫn Wafer Photoresist Coating vòi siêu âm 30Khz Scattering
Mô tả:
Các loại phun siêu âm phân tán là một vòi phun siêu âm atomizing với một xịt nón xoáy. nó sử dụng công nghệ vòi phun siêu âm atomization,và thông qua thiết kế kênh dòng chảy xoáy đặc biệt, khí mang được chuyển thành một luồng không khí xoay đồng đều, do đó sự phân hủy siêu âm của sương mù lỏng được phân tán dưới dạng phun xoáy,mở rộng khu vực phun của máy atomizerCác vòi siêu âm cũng có thể được phun trên bề mặt dọc hoặc cong và các chất nền khác có cạnh sắc nét.
Các thông số:
| Mô hình | FSW-3002-L |
| Tên | 30Khz Phân tán ống phun siêu âm |
| Tần số | 30Khz |
| Phạm vi kích thước hạt phân tử ((μm) | 15-40 |
| Chiều rộng phun ((mm) | 40-80 |
| Dòng phun ((ml/min) | 0.5-20 |
| Chiều cao phun ((mm) | 30-80 |
| Độ nhớt của chất lỏng (cps) | <30 |
| Kích thước hạt (μm) | <15 |
| Áp suất chuyển hướng (Mpa) | <0.05 |
| Ứng dụng | Thích hợp cho lớp phủ chống quang trên chip bán dẫn |
So với các kỹ thuật phun truyền thống, phun siêu âm có những lợi thế sau:
1. Sự đồng nhất phun: phun siêu âm có thể đạt được một lớp phủ đồng nhất hơn bằng cách tạo ra các hạt phun nhỏ. Sự đồng nhất này có thể làm giảm sự khác biệt về độ dày của lớp phủ,cải thiện chất lượng và ngoại hình của lớp phủ.
2Hiệu quả cao và tiết kiệm năng lượng: phun siêu âm có thể hiệu quả biến chất lỏng thành các hạt phun nhỏ, để đạt được hiệu quả phun cao hơn.So với các kỹ thuật phun truyền thống, nó có thể tiết kiệm việc sử dụng lớp phủ và dung môi, và giảm tiêu thụ năng lượng trong quá trình phun.
3. Kiểm soát tinh tế: Công nghệ phun siêu âm có thể đạt được kiểm soát tinh tế của quá trình phun.kích thước hạt, phân phối và tốc độ phun phun có thể được kiểm soát chính xác để đáp ứng các yêu cầu ứng dụng khác nhau.
4Giảm sự phân tán aerosol: Các hạt phun được tạo ra bằng phun siêu âm nhỏ hơn, có thể làm giảm sự phân tán aerosol so với công nghệ phun truyền thống.Điều này có lợi cho môi trường và sức khỏe và an toàn của các nhà khai thác.
5- Phù hợp với vật liệu đặc biệt: Công nghệ phun siêu âm phù hợp với các loại vật liệu lỏng khác nhau, bao gồm chất lỏng độ nhớt cao, chất lỏng có hàm lượng rắn cao,Các chất đình chỉ hạt nanoNgược lại, các kỹ thuật phun truyền thống có thể không thể phun hiệu quả các vật liệu đặc biệt này.
Cần lưu ý rằng công nghệ phun siêu âm cũng có một số hạn chế và điều kiện áp dụng,như chi phí thiết bị tương đối cao và một số yêu cầu về tính chất vật lý và hóa học của chất lỏngKhi chọn công nghệ phun, cần phải xem xét toàn diện các yêu cầu ứng dụng cụ thể và đặc điểm kỹ thuật.
Ứng dụng điển hình Sản phẳng bán dẫn Wafer Photoresist Coating vòi siêu âm 30Khz Scattering