Để lại lời nhắn
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
Để lại lời nhắn
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
Nguồn gốc: | Trung Quốc |
---|---|
Hàng hiệu: | FUNSONIC |
Chứng nhận: | CE |
Số mô hình: | FS310 |
Số lượng đặt hàng tối thiểu: | 1 đơn vị |
Giá bán: | Negotation |
chi tiết đóng gói: | đóng gói bằng hộp gỗ |
Điều khoản thanh toán: | T/T, Western Union |
Khả năng cung cấp: | 1000 đơn vị mỗi tháng |
tên sản xuất: | Máy phun siêu âm chính xác | Frequency: | 20-200Khz |
---|---|---|---|
công suất tối đa: | 1-15W | Automized Particle Size Range: | 15-45μm |
Lưu lượng phun: | 0,5-10ml/phút | Liquid viscosity: | <30cps |
Kích thước hạt: | < 8μm | Ứng dụng: | Thích hợp cho các thí nghiệm chất lượng |
Làm nổi bật: | Lớp phủ siêu âm chính xác,Lớp phủ siêu âm oxit dẫn điện trong suốt,Máy sơn phun siêu âm chính xác |
Lớp phủ độ chính xác siêu âm oxit dẫn điện trong suốt
Mô tả:
Transparent Conductive Oxide (TCO) Ultrasonic Precision Coating là một công nghệ sơn công nghệ cao chủ yếu được sử dụng để tạo các lớp phủ trong suốt và dẫn điện trong các thiết bị điện tử và quang điện tử.
Các oxit dẫn điện trong suốt (như oxit thiếc indium, ITO) thường được sử dụng trong các ứng dụng như màn hình cảm ứng, màn hình hiển thị và pin mặt trời.Công nghệ lớp phủ chính xác siêu âm áp dụng lớp phủ TCO đồng đều trên bề mặt của nền thông qua rung động tần số cao của sóng siêu âm, tăng cường độ dính giữa lớp phủ và chất nền, và kiểm soát chính xác độ dày và sự đồng nhất của lớp phủ.
FUNSONIC cơ bản máy phun siêu âm FS310 chủ yếu được phát triển bởi các doanh nghiệp, trường đại học và viện nghiên cứu liên lạc với thiết bị phun siêu âm lần đầu tiên.
Các thông số:
Loại sản phẩm |
Máy phủ phun siêu âm chính xác Máy bàn làm việc trong phòng thí nghiệm |
Tần số hoạt động của vòi phun | 20-200KHz |
Năng lượng vòi | 1-15W |
Khối lượng phun liên tục tối đa | 0.01-50ml/phút |
Chiều rộng phun hiệu quả | 2-100mm |
Sự đồng nhất phun | ≥95% |
Tỷ lệ chuyển đổi giải pháp | ≥95% |
Độ dày màng khô | 20nm-100μm |
Độ nhớt dung dịch | ≤30cps |
Phạm vi nhiệt độ | 1-60°C |
Các hạt hạt (giá trị trung bình) | 10-45μm (nước chưng cất), được xác định bởi tần số của vòi phun |
Áp suất chuyển hướng tối đa | ≤0,10MPA |
Điện áp đầu vào | 220V±10%/50-60Hz |
Chế độ tập luyện | X + Y hai trục hoàn toàn tự động, điều chỉnh thủ công trục Z |
Chế độ điều khiển | Thẻ máy tính vi tính, màn hình cảm ứng 7 inch + nút |
Nội dung kiểm soát | Máy phun siêu âm, cung cấp chất lỏng, sưởi ấm, phân tán siêu âm và các hệ thống khác |
Phương pháp cung cấp chất lỏng | Máy bơm tiêm chính xác |
Hệ thống phân tán siêu âm (tùy chọn) | 50ml, 40K, máy lấy mẫu chất lượng sinh học |
Năng lượng định lượng của hệ thống phân tán siêu âm | 200W,10A |
Chế độ điều chỉnh vòi:
Khi vòi phun quá gần với chất nền, lớp phủ có thể quá tập trung trong khi phun, dẫn đến sự phân tán không đồng đều của lớp phủ và hình thành các vết phun.Dưới đây là một số gợi ý để điều chỉnh:
1. Tăng khoảng cách giữa vòi phun và nền: Nó được khuyến cáo để tăng khoảng cách giữa vòi phun và nền một cách thích hợp, thường là giữa 5-15 cm,tùy thuộc vào loại lớp phủ và yêu cầu ứng dụng.
2. Điều chỉnh góc vòi phun: Đảm bảo rằng góc phun của vòi phun phù hợp với đối tượng lớp phủ và tránh phun thẳng đứng quá mức,có thể khiến lớp phủ ảnh hưởng trực tiếp đến chất nền.
3Giảm áp suất phun: Nếu sử dụng hệ thống khí nén, giảm áp suất phun phù hợp có thể làm giảm lực va chạm của lớp phủ, do đó giảm phun.
4Tăng tốc độ lớp phủ phù hợp: Tăng tốc độ lớp phủ có thể giảm thời gian cư trú của lớp phủ trên nền, do đó giảm khả năng phun nước.
5. Chọn loại vòi phù hợp: Dựa trên các yêu cầu về lớp phủ và ứng dụng, chọn loại vòi phù hợp, chẳng hạn như vòi có hiệu ứng atomization tốt hơn.
Lớp phủ độ chính xác siêu âm oxit dẫn điện trong suốt