logo
Các sản phẩm
Chi tiết sản phẩm
Nhà > Các sản phẩm >
Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

MOQ: 1 đơn vị
Giá: Negotation
Bao bì tiêu chuẩn: Đóng gói bởi thùng carton
Phương thức thanh toán: T/T, công đoàn phương Tây
Năng lực cung cấp: 1000 đơn vị mỗi tháng
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc
Trung Quốc
Hàng hiệu
FUNSONIC
Chứng nhận
CE
Số mô hình
FSW-1502-L
Tên sản xuất:
Nguyên tử hóa vòi phun siêu âm tán xạ 150Khz
Tính thường xuyên:
150kHz
Công suất tối đa:
10W
Phạm vi kích thước hạt tự động:
10-30μm
Dòng phun:
0,5-20ml
độ nhớt chất lỏng:
<10cps
Kích thước hạt:
<5μm
Ứng dụng:
ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng
Làm nổi bật:

hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

,

Máy phun phủ bằng sóng siêu âm có bảo hành

,

hệ thống phun phủ siêu âm tần số cao

Mô tả sản phẩm

Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz 



Mô tả: 


Hệ thống phun tán xạ siêu âm 150kHz được phát triển cho lớp phủ chính xác siêu mỏng và lắng đọng đồng dạng cấu trúc vi mô 3D.

Với rung động tần số cao siêu âm 150kHz, chất lỏng được nguyên tử hóa thành các giọt siêu nhỏ, phân bố đều. Kênh xoáy tích hợp bên trong vòi phun chuyển đổi khí mang áp suất thấp thành dòng xoáy quay, tạo thành một lớp phun tán xạ hình nón. Nó cho phép phủ đồng dạng trên các bề mặt phẳng, bậc thang, rãnh, thành bên và đế cong, khắc phục hạn chế của vòi phun tập trung cho cấu trúc vi mô 3D.
Được trang bị hệ thống cấp liệu lỏng chính xác, điều chỉnh khí mang và mô-đun chuyển động XYZ, độ dày màng khô dao động từ 20 nm đến hàng chục micron với độ đồng nhất lớp phủ ≥95%. Lớp phun mềm với động năng thấp giảm thiểu phun quá mức và lãng phí vật liệu, vòi phun ít bị tắc nghẽn.
Thích hợp cho các dung dịch có độ nhớt thấp và huyền phù nano, được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học cho nghiên cứu & phát triển và sản xuất thử nghiệm.



Thông số: 


Mẫu FSW-1502-L
Tên Nguyên tử hóa vòi phun tán xạ siêu âm 150Khz
Tần số 150Khz
Phạm vi kích thước hạt nguyên tử hóa (μm) 10-30
Chiều rộng phun (mm) 40-80
Lưu lượng phun (ml/phút) 0.5-20
Chiều cao phun (mm) 30-80
Độ nhớt chất lỏng (cps) <10
Kích thước hạt (μm) <5
Áp suất phân luồng (Mpa) <0.05
Ứng dụng được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học



Lợi ích chính :


• Tần số cao 150kHz cho giọt mịn hơn & màng siêu mỏng

• Phun tán xạ xoáy cho lớp phủ đồng dạng trên rãnh & thành bên

• Phun động năng thấp, không làm hỏng đế

• Độ đồng nhất cao ≥95%, kiểm soát màng nano chính xác

• Tận dụng vật liệu cao, bảo trì thấpe



Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz 


Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

Các sản phẩm
Chi tiết sản phẩm
Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz
MOQ: 1 đơn vị
Giá: Negotation
Bao bì tiêu chuẩn: Đóng gói bởi thùng carton
Phương thức thanh toán: T/T, công đoàn phương Tây
Năng lực cung cấp: 1000 đơn vị mỗi tháng
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc
Trung Quốc
Hàng hiệu
FUNSONIC
Chứng nhận
CE
Số mô hình
FSW-1502-L
Tên sản xuất:
Nguyên tử hóa vòi phun siêu âm tán xạ 150Khz
Tính thường xuyên:
150kHz
Công suất tối đa:
10W
Phạm vi kích thước hạt tự động:
10-30μm
Dòng phun:
0,5-20ml
độ nhớt chất lỏng:
<10cps
Kích thước hạt:
<5μm
Ứng dụng:
ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng
Số lượng đặt hàng tối thiểu:
1 đơn vị
Giá bán:
Negotation
chi tiết đóng gói:
Đóng gói bởi thùng carton
Điều khoản thanh toán:
T/T, công đoàn phương Tây
Khả năng cung cấp:
1000 đơn vị mỗi tháng
Làm nổi bật

hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

,

Máy phun phủ bằng sóng siêu âm có bảo hành

,

hệ thống phun phủ siêu âm tần số cao

Mô tả sản phẩm

Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz 



Mô tả: 


Hệ thống phun tán xạ siêu âm 150kHz được phát triển cho lớp phủ chính xác siêu mỏng và lắng đọng đồng dạng cấu trúc vi mô 3D.

Với rung động tần số cao siêu âm 150kHz, chất lỏng được nguyên tử hóa thành các giọt siêu nhỏ, phân bố đều. Kênh xoáy tích hợp bên trong vòi phun chuyển đổi khí mang áp suất thấp thành dòng xoáy quay, tạo thành một lớp phun tán xạ hình nón. Nó cho phép phủ đồng dạng trên các bề mặt phẳng, bậc thang, rãnh, thành bên và đế cong, khắc phục hạn chế của vòi phun tập trung cho cấu trúc vi mô 3D.
Được trang bị hệ thống cấp liệu lỏng chính xác, điều chỉnh khí mang và mô-đun chuyển động XYZ, độ dày màng khô dao động từ 20 nm đến hàng chục micron với độ đồng nhất lớp phủ ≥95%. Lớp phun mềm với động năng thấp giảm thiểu phun quá mức và lãng phí vật liệu, vòi phun ít bị tắc nghẽn.
Thích hợp cho các dung dịch có độ nhớt thấp và huyền phù nano, được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học cho nghiên cứu & phát triển và sản xuất thử nghiệm.



Thông số: 


Mẫu FSW-1502-L
Tên Nguyên tử hóa vòi phun tán xạ siêu âm 150Khz
Tần số 150Khz
Phạm vi kích thước hạt nguyên tử hóa (μm) 10-30
Chiều rộng phun (mm) 40-80
Lưu lượng phun (ml/phút) 0.5-20
Chiều cao phun (mm) 30-80
Độ nhớt chất lỏng (cps) <10
Kích thước hạt (μm) <5
Áp suất phân luồng (Mpa) <0.05
Ứng dụng được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học



Lợi ích chính :


• Tần số cao 150kHz cho giọt mịn hơn & màng siêu mỏng

• Phun tán xạ xoáy cho lớp phủ đồng dạng trên rãnh & thành bên

• Phun động năng thấp, không làm hỏng đế

• Độ đồng nhất cao ≥95%, kiểm soát màng nano chính xác

• Tận dụng vật liệu cao, bảo trì thấpe



Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz 


Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

Hệ thống phun phủ siêu âm 150kHz

sơ đồ trang web |  Chính sách bảo mật | Trung Quốc tốt Chất lượng Hàn kim loại siêu âm Nhà cung cấp. Bản quyền © 2018-2026 Hangzhou Qianrong Automation Equipment Co.,Ltd Tất cả. Tất cả quyền được bảo lưu.