logo
Các sản phẩm
Chi tiết sản phẩm
Nhà > Các sản phẩm >
Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

MOQ: 1 đơn vị
Giá: Negotation
Bao bì tiêu chuẩn: Đóng gói bởi thùng carton
Phương thức thanh toán: T/T, công đoàn phương Tây
Năng lực cung cấp: 1000 đơn vị mỗi tháng
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc
Trung Quốc
Hàng hiệu
FUNSONIC
Chứng nhận
CE
Số mô hình
FSW-1202-L
Tên sản xuất:
Nguyên tử hóa vòi phun siêu âm tán xạ 120Khz
Tính thường xuyên:
120KHz
Công suất tối đa:
10W
Phạm vi kích thước hạt tự động:
10-35μm
Dòng phun:
0,5-20ml
độ nhớt chất lỏng:
<10cps
Kích thước hạt:
<5μm
Ứng dụng:
ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng
Làm nổi bật:

Thiết bị phun sương siêu âm 120kHz

,

Phun sương tán xạ siêu âm tần số cao

,

Máy phun phủ bằng sóng siêu âm có bảo hành

Mô tả sản phẩm



Mô tả: 


Thiết bị phun tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz tận dụng cộng hưởng tần số cao 120kHz của bộ chuyển đổi áp điện để phân tán nhẹ nhàng nguyên liệu lỏng thành các giọt micron mịn, phân tán đều. Với kênh dòng chảy xoáy tích hợp bên trong đầu phun, khí mang tạo ra trường phun tán xạ góc rộng quay, mang lại khả năng bọc dòng chảy tuyệt vời cho luồng khí dung.

Nó mang lại lớp phủ đồng nhất, tích hợp và đồng đều cho các bộ phận có bề mặt phẳng, bậc, rãnh, thành bên, bề mặt cong và các vi cấu trúc 3D đa dạng khác. Nó giải quyết hạn chế lâu đời của ngành đối với các đầu phun siêu âm tập trung thông thường: khả năng thấm ướt kém trên thành bên và độ dày màng không đồng đều trên các chất nền có địa hình phức tạp.Hệ thống hoàn chỉnh tích hợp bộ phận cấp vi lỏng chính xác, hệ thống điều chỉnh áp suất khí mang và bệ chuyển động ba trục XYZ, với mô-đun kiểm soát nhiệt độ tùy chọn. Lớp phun có động năng mềm mà không có tác động áp suất cao, giúp bảo vệ đáng tin cậy các chất nền chính xác nhạy cảm. Nó giảm đáng kể tình trạng phun quá mức và bắn tung tóe bùn, đạt được hiệu quả sử dụng vật liệu cao hơn nhiều so với phun hai chất lỏng truyền thống. Đầu phun có hiệu suất chống tắc nghẽn vượt trội và chi phí vận hành, bảo trì dài hạn thấp hơn.Độ dày lớp phủ có thể được điều chỉnh chính xác từ hàng chục nanomet đến hàng chục micron, mang lại sự đồng đều lớp màng vượt trội. Tương thích với các dung dịch có độ nhớt thấp và huyền phù nano, nó được ứng dụng rộng rãi trong MEA pin nhiên liệu, tấm wafer bán dẫn, thiết bị MEMS, phần tử cảm biến, ống thông bóng y tế, màng mỏng quang học, lớp phủ cách điện điện tử và hơn thế nữa. Nó đáp ứng các yêu cầu chế tạo màng siêu mỏng từ nghiên cứu và phát triển tiên tiến đến sản xuất quy mô thí điểm.

Thông số: 

Mẫu mã



FSW-1202-L


Tên Phun tán xạ siêu âm 120Khz
Tần số 120Khz
Phạm vi kích thước hạt phun tán xạ (μm) 10-35
Độ rộng phun (mm) 40-80
Lưu lượng phun (ml/phút) 0.5-20
Chiều cao phun (mm) 30-80
Độ nhớt chất lỏng (cps) <10
Kích thước hạt (μm) <5
Áp suất phân kỳ (Mpa) <0.05
Ứng dụng được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học
Ưu điểm cốt lõi: ✅ Phun tán xạ tần số cao 120kHz tạo ra các giọt có kích thước hạt đồng đều, cân bằng giữa chất lượng phun mịn và hiệu quả phun



✅ Phun tán xạ góc rộng xoáy cho phép phủ đồng nhất trên các rãnh 3D, bậc, bề mặt cong và thành bên


✅ Phun mềm động năng thấp bảo vệ các chất nền chính xác mỏng manh và ngăn chặn hiệu quả sự kết tụ của bùn

✅ Kiểm soát độ dày màng ở cấp độ nano với hiệu suất phủ ổn định và nhất quán

✅ Hiệu quả sử dụng nguyên liệu thô cao làm giảm lãng phí chất lỏng; đầu phun chống tắc nghẽn giúp bảo trì dễ dàng

✅ Kiến trúc tích hợp mô-đun, có thể mở rộng với các bệ gia nhiệt, mâm cặp chân không và bệ chuyển động hoàn toàn tự động

Thiết bị phun tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz





Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

Các sản phẩm
Chi tiết sản phẩm
Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz
MOQ: 1 đơn vị
Giá: Negotation
Bao bì tiêu chuẩn: Đóng gói bởi thùng carton
Phương thức thanh toán: T/T, công đoàn phương Tây
Năng lực cung cấp: 1000 đơn vị mỗi tháng
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc
Trung Quốc
Hàng hiệu
FUNSONIC
Chứng nhận
CE
Số mô hình
FSW-1202-L
Tên sản xuất:
Nguyên tử hóa vòi phun siêu âm tán xạ 120Khz
Tính thường xuyên:
120KHz
Công suất tối đa:
10W
Phạm vi kích thước hạt tự động:
10-35μm
Dòng phun:
0,5-20ml
độ nhớt chất lỏng:
<10cps
Kích thước hạt:
<5μm
Ứng dụng:
ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng
Số lượng đặt hàng tối thiểu:
1 đơn vị
Giá bán:
Negotation
chi tiết đóng gói:
Đóng gói bởi thùng carton
Điều khoản thanh toán:
T/T, công đoàn phương Tây
Khả năng cung cấp:
1000 đơn vị mỗi tháng
Làm nổi bật

Thiết bị phun sương siêu âm 120kHz

,

Phun sương tán xạ siêu âm tần số cao

,

Máy phun phủ bằng sóng siêu âm có bảo hành

Mô tả sản phẩm



Mô tả: 


Thiết bị phun tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz tận dụng cộng hưởng tần số cao 120kHz của bộ chuyển đổi áp điện để phân tán nhẹ nhàng nguyên liệu lỏng thành các giọt micron mịn, phân tán đều. Với kênh dòng chảy xoáy tích hợp bên trong đầu phun, khí mang tạo ra trường phun tán xạ góc rộng quay, mang lại khả năng bọc dòng chảy tuyệt vời cho luồng khí dung.

Nó mang lại lớp phủ đồng nhất, tích hợp và đồng đều cho các bộ phận có bề mặt phẳng, bậc, rãnh, thành bên, bề mặt cong và các vi cấu trúc 3D đa dạng khác. Nó giải quyết hạn chế lâu đời của ngành đối với các đầu phun siêu âm tập trung thông thường: khả năng thấm ướt kém trên thành bên và độ dày màng không đồng đều trên các chất nền có địa hình phức tạp.Hệ thống hoàn chỉnh tích hợp bộ phận cấp vi lỏng chính xác, hệ thống điều chỉnh áp suất khí mang và bệ chuyển động ba trục XYZ, với mô-đun kiểm soát nhiệt độ tùy chọn. Lớp phun có động năng mềm mà không có tác động áp suất cao, giúp bảo vệ đáng tin cậy các chất nền chính xác nhạy cảm. Nó giảm đáng kể tình trạng phun quá mức và bắn tung tóe bùn, đạt được hiệu quả sử dụng vật liệu cao hơn nhiều so với phun hai chất lỏng truyền thống. Đầu phun có hiệu suất chống tắc nghẽn vượt trội và chi phí vận hành, bảo trì dài hạn thấp hơn.Độ dày lớp phủ có thể được điều chỉnh chính xác từ hàng chục nanomet đến hàng chục micron, mang lại sự đồng đều lớp màng vượt trội. Tương thích với các dung dịch có độ nhớt thấp và huyền phù nano, nó được ứng dụng rộng rãi trong MEA pin nhiên liệu, tấm wafer bán dẫn, thiết bị MEMS, phần tử cảm biến, ống thông bóng y tế, màng mỏng quang học, lớp phủ cách điện điện tử và hơn thế nữa. Nó đáp ứng các yêu cầu chế tạo màng siêu mỏng từ nghiên cứu và phát triển tiên tiến đến sản xuất quy mô thí điểm.

Thông số: 

Mẫu mã



FSW-1202-L


Tên Phun tán xạ siêu âm 120Khz
Tần số 120Khz
Phạm vi kích thước hạt phun tán xạ (μm) 10-35
Độ rộng phun (mm) 40-80
Lưu lượng phun (ml/phút) 0.5-20
Chiều cao phun (mm) 30-80
Độ nhớt chất lỏng (cps) <10
Kích thước hạt (μm) <5
Áp suất phân kỳ (Mpa) <0.05
Ứng dụng được ứng dụng rộng rãi trong MEMS, tấm wafer bán dẫn, pin nhiên liệu PEM, cảm biến, ống thông bóng y tế và màng mỏng quang học
Ưu điểm cốt lõi: ✅ Phun tán xạ tần số cao 120kHz tạo ra các giọt có kích thước hạt đồng đều, cân bằng giữa chất lượng phun mịn và hiệu quả phun



✅ Phun tán xạ góc rộng xoáy cho phép phủ đồng nhất trên các rãnh 3D, bậc, bề mặt cong và thành bên


✅ Phun mềm động năng thấp bảo vệ các chất nền chính xác mỏng manh và ngăn chặn hiệu quả sự kết tụ của bùn

✅ Kiểm soát độ dày màng ở cấp độ nano với hiệu suất phủ ổn định và nhất quán

✅ Hiệu quả sử dụng nguyên liệu thô cao làm giảm lãng phí chất lỏng; đầu phun chống tắc nghẽn giúp bảo trì dễ dàng

✅ Kiến trúc tích hợp mô-đun, có thể mở rộng với các bệ gia nhiệt, mâm cặp chân không và bệ chuyển động hoàn toàn tự động

Thiết bị phun tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz





Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

Thiết bị phun sương tán xạ siêu âm tần số cao 120kHz

sơ đồ trang web |  Chính sách bảo mật | Trung Quốc tốt Chất lượng Hàn kim loại siêu âm Nhà cung cấp. Bản quyền © 2018-2026 Hangzhou Qianrong Automation Equipment Co.,Ltd Tất cả. Tất cả quyền được bảo lưu.